大日本印刷(DNP)は12月12日、極端紫外線(EUV)リソグラフィに対応した、2nm世代以降のロジック半導体向けフォトマスクに要求される微細パターンの解像に成功したと発表した。また、2nm世代以降向けに適用が検討されて…
Written on 12月 17, 2024 at 9:56 AM, by global-admin
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大日本印刷（以下DNP）は、次世代半導体パッケージに向けたTGV(Through Glass Via : ガラス貫通電極)ガラスコア基板を開発した。この製品は、FC-BGA（Flip Chip-Ball Grid Arr…
Written on 3月 20, 2023 at 11:47 AM, by global-admin
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