キヤノンは9月26日、次世代半導体製造装置であるナノインプリントリソグラフィ（NIL）装置「FPA-1200NN2C」を米国テキサス州の半導体コンソーシアム「Texas Instititute for Electroni…
Written on 10月 1, 2024 at 9:40 AM, by global-admin
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NTTアドバンステクノロジは8月30日、耐光性に優れた屈折率1.9の高屈折率ナノインプリント樹脂を開発したと発表した。可視光領域での信頼性が求められるAR/VRなどの光学デバイス用途への適用拡大が期待される。 近年、AR…
Written on 9月 10, 2024 at 10:18 AM, by global-admin
Tags: ナノインプリント, 半導体材料
富士フイルムは4月30日、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料「ナノインプリントレジスト」を5月下旬より、同社子会社で電子材料を手がける富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズを通して販売す…
Written on 5月 7, 2024 at 6:15 PM, by global-admin
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Tags: ナノインプリント, フォトレジスト, 富士フイルム