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カスタムパターン
図面データ(.dxf .gds)又は簡単な図(ポンチ絵)のご支給で設計データ作成〜マスク作成→パターンウエハ作成と一貫した対応ができます。 実装評価用のTEGの実績では数µmのL&SのAlやCu・Ruの配線パターン+Min7μm程度のバンプ形成が可能です。 また微細なパターンウエハとしては 50nm L&Sなどの独自設計のトレンチパターンウエハの作成ができます。 ※対応ウエハサイズ:小口径~Φ300mm ※デザインルールについては要問い合わせ
2層以上の配線~バンプ形成まで対応可。 接合評価用ウエハでは2µmサイズのCuパターン形成実績あります。
ご支給基板への RDL(Re Distribute Layer)配線加工にも対応致します。
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