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Chemical Mechanical Polishing

CMP洗浄装置

CMP洗浄装置

8 ＆ 12インチウエハ向け　洗浄装置（Cleaner 812S）

8＆12インチウエハ向け洗浄装置（Cleaner 812S）の画像

ワークサイズ	Φ8 & 12インチ対応
構成	4つの独立洗浄ステーション　DIW スプレーによるプレ洗浄×１　両面ロールブラシ洗浄×２　N2 ブローによるスピン・リンス・ドライ×１
寸法	W: 1,700 ✕ D: 960 ✕ H: 1,300
洗浄方式	スプレー洗浄 / 片面ブラシ洗浄 / スピンリンス乾燥
ブラシサイズ	Ø70(OD) Ø32(ID) Ø320(L)
ブラシギャップ調整	オート PLC 制御　(ブラシギャップ範囲: -10mm ~ 2mm)
洗浄液	NH4OH ~1wt% 使用可能
ブラシタイプ	PVAブラシ, 両面洗浄ブラシ
ブラシ回転速度	Max 200rpm
スピン速度	Max 2500rpm
リンス/ドライ	DIW リンス / メガソニック洗浄 / N2 ブロー
コントロールモジュール	PC モニターインターフェースプログラム可能シーケンスシーケンス制御: PC
製造元	韓国 G&P Technology社

Pre-cleaning

Brush scrubbing

Spin rinse dry

Megasonic

4～12インチウエハ向け　洗浄装置（Cleaner 412S）

4～12インチウエハ向け洗浄装置（Cleaner 412S）の画像

4～12インチウエハ向け洗浄装置（Cleaner 412S）の画像

ワークサイズ	Φ8 or 12インチ対応
寸法	W: 750 ✕ D: 835 ✕ H: 1,250
洗浄方式	スプレー洗浄 / 片面ブラシ洗浄 / スピンリンス乾燥
ブラシサイズ	Ø70(OD) Ø32(ID) Ø170(L)
ブラシギャップ調整	オート PLC 制御　(ブラシギャップ範囲: -10mm ~ 2mm)
洗浄液	NH4OH ~1wt% 使用可能
ブラシタイプ	PVAブラシ, 両面洗浄ブラシ
ブラシ回転速度	Max 200rpm
スピン速度	Max 2500rpm
リンス/ドライ	DI リンス / N2 ブロー
プロセス	自動シーケンスによるマニュアルウェーハローディングウェットイン/ドライアウト LCDモニタータッチパネル、シーケンス制御PLCタイプ
製造元	韓国 G&P Technology社

4～6インチウエハ向け　洗浄装置（Cleaner 428L）

4～6インチウエハ向け洗浄装置（Cleaner 428L）の画像

ワークサイズ	Φ4～6インチ対応
構成	6つの独立洗浄ステーション　自動イン　自動アウト　DIW スプレーによるプレ洗浄×１　両面ロールブラシ洗浄×２　N2 ブローによるスピン・リンス・ドライ×１
寸法	W: 2,480 ✕ D: 1,085 ✕ H: 1,360
洗浄方式	スプレー洗浄 / 片面ブラシ洗浄 / スピンリンス乾燥
ブラシサイズ	Ø38(OD) Ø18(ID) Ø310(L)
洗浄液	2ポンプ（各ブラシチャンバーに1つ） NH4OH ~1wt% 使用可能
ブラシタイプ	PVAブラシ, 両面洗浄ブラシ
ブラシ回転速度	Max 300rpm
スピン速度	Max 2500rpm
リンス/ドライ	DIW リンス / メガソニック洗浄 / N2 ブロー
コントロールモジュール	シーケンス制御 : PC & PC タッチモニター
製造元	韓国 G&P Technology社

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Pre-cleaning

1^st brush
scrubbing

2^nd brush
scrubbing

Spin rinse dry

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