Tag Archives: リソグラフィ
Lam ResearchとJSR、半導体製造技術の発展で提携
米半導体製造装置大手のLam Researchと半導体材料を手掛けるJSR及びその米国子会社のInpriaは9月15日、次世代半導体製造に向けた非独占的なクロスライセンス契約と協業に合意したと発表した。 協業により両社は…
キヤノン、ナノインプリントリソグラフィ装置を米半導体コンソーシアムに初出荷
キヤノンは9月26日、次世代半導体製造装置であるナノインプリントリソグラフィ（NIL）装置「FPA-1200NN2C」を米国テキサス州の半導体コンソーシアム「Texas Instititute for Electroni…
ナガセケムテックス、国内初となるフォトリソグラフィ現像液の回収及び、再生を事業化へ
半導体材料大手のナガセケムテックス株式会社とその親会社である大手商社の長瀬産業、そして米国のレジスト現像液製造大手のSachem Inc.は、半導体製造に使用される高純度現像液（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド：通称…
ASML、シリコンバレーに最新鋭R＆D施設を建設
オランダASML Holdings社は2021年8月20日、米カリフォルニア州のシリコンバレーの新しい研究開発（R＆D）施設をオープンした。建設面積は21万2,500ft²で、クラス1000のクリーンルーム（面積2万4,…