大日本印刷(DNP)は、半導体の回路パターン形成に使用するナノインプリントリソグラフィ(NIL)向けに、回路線幅10nmのテンプレートを開発したと発表した。1.4nm世代相当のロジック半導体にも対応し、NAND型フラッシ…
Written on 12月 16, 2025 at 1:48 PM, by global-admin
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Categories: CMP装置, GNCレター
Tags: ナノインプリント, リソグラフィ, 大日本印刷
米半導体製造装置大手のLam Researchと半導体材料を手掛けるJSR及びその米国子会社のInpriaは9月15日、次世代半導体製造に向けた非独占的なクロスライセンス契約と協業に合意したと発表した。 協業により両社は…
Written on 9月 22, 2025 at 8:45 PM, by global-admin
Categories: GNCレター, 記事一覧
Tags: EUV, JSR, Lam Research, リソグラフィ, 業務提携
キヤノンは9月26日、次世代半導体製造装置であるナノインプリントリソグラフィ（NIL）装置「FPA-1200NN2C」を米国テキサス州の半導体コンソーシアム「Texas Instititute for Electroni…
Written on 10月 1, 2024 at 9:40 AM, by global-admin
Tags: ナノインプリント, リソグラフィ
半導体材料大手のナガセケムテックス株式会社とその親会社である大手商社の長瀬産業、そして米国のレジスト現像液製造大手のSachem Inc.は、半導体製造に使用される高純度現像液（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド：通称…
Written on 12月 11, 2023 at 6:04 PM, by global-admin
Tags: SDGs, リソグラフィ
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