Tag Archives: リソグラフィ

キヤノン、ナノインプリントリソグラフィ装置を米半導体コンソーシアムに初出荷

キヤノンは9月26日、次世代半導体製造装置であるナノインプリントリソグラフィ（NIL）装置「FPA-1200NN2C」を米国テキサス州の半導体コンソーシアム「Texas Instititute for Electroni…

Written on 10月 1, 2024 at 9:40 AM, by global-admin

半導体材料大手のナガセケムテックス株式会社とその親会社である大手商社の長瀬産業、そして米国のレジスト現像液製造大手のSachem Inc.は、半導体製造に使用される高純度現像液（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド：通称…

Written on 12月 11, 2023 at 6:04 PM, by global-admin

オランダASML Holdings社は2021年8月20日、米カリフォルニア州のシリコンバレーの新しい研究開発（R＆D）施設をオープンした。建設面積は21万2,500ft²で、クラス1000のクリーンルーム（面積2万4,…

Written on 8月 24, 2021 at 11:34 AM, by global-admin

東京エレクトロン(TEL)は2021年6月8日、オランダVeldhoven（フェルドホーフェン）にある「imec-ASML joint high NA EUV research laboratory」(imec-ASML…

Written on 6月 15, 2021 at 10:28 AM, by global-admin