グローバルネット株式会社では2025年3月14日（金）に
セミナー「先端半導体における洗浄プロセスの最新動向と課題」を開催いたします。

【ご講演】

「GAA以降の前工程における洗浄プロセスの動向」
講師：山口 佑 氏（株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ）

「GAA世代以降のCMP後洗浄に求められる技術」
講師：竹下　寛 氏（三菱ケミカル株式会社 ）

「先端半導体におけるプラズマ技術と応用」
講師：辨野 宏 氏（パナソニックコネクト株式会社）

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日時：2025年3月14日（金）13:30~

場所：連合会館（東京都千代田区、新御茶ノ水駅まで徒歩0分）

参加費：¥30,800(税込)~

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皆様のお申し込みをお待ちしております。