セミナー「先端半導体における洗浄プロセスの最新動向と課題」開催のお知らせ 2025.02.13 グローバルネット株式会社では2025年3月14日(金)に セミナー「先端半導体における洗浄プロセスの最新動向と課題」を開催いたします。 【ご講演】 「GAA以降の前工程における洗浄プロセスの動向」 講師:山口 佑 氏(株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ) 「GAA世代以降のCMP後洗浄に求められる技術」 講師:竹下 寛 氏(三菱ケミカル株式会社 ) 「先端半導体におけるプラズマ技術と応用」 講師:辨野 宏 氏(パナソニックコネクト株式会社) 日時:2025年3月14日(金)13:30~ 場所:連合会館(東京都千代田区、新御茶ノ水駅まで徒歩0分) 参加費:¥30,800(税込)~ お申し込み・詳細はこちら 皆様のお申し込みをお待ちしております。