Tag Archives: フォトマスク

大日本印刷、フォトマスク上に2nm世代以降に相当するパターン解像を達成

大日本印刷(DNP)は12月12日、極端紫外線(EUV)リソグラフィに対応した、2nm世代以降のロジック半導体向けフォトマスクに要求される微細パターンの解像に成功したと発表した。また、2nm世代以降向けに適用が検討されて…

Written on 12月 17, 2024 at 9:56 AM, by global-admin

半導体検査装置を手掛けるレーザーテックは11月24日、High NA EUVリソグラフィに対応するEUVパターンマスク欠陥検査装置ACTIS「A300」シリーズを発表した。同社ではこれまでに、EUVリソグラフィに対応す…

Written on 12月 5, 2023 at 1:37 PM, by global-admin

三井化学と旭化成は2022年5月22日、三井化学が旭化成のペリクル事業を取得することで合意したことを発表した。三井化学は、旭化成のペリクル事業を吸収分割により包括的に承継し、ペリクルの製造を請負う旭化成EMS株式会社（従…

Written on 5月 31, 2022 at 10:49 AM, by global-admin

HOYAと中国BOEグループ傘下のBeijing BOE Vision Electronic Technology社（BOEVT）は2021年10月22日、中国にFPDフォトマスク製造のための合弁会社を設立する契約を締結…

Written on 10月 25, 2021 at 6:37 PM, by global-admin