米半導体製造装置大手のLam Researchと半導体材料を手掛けるJSR及びその米国子会社のInpriaは9月15日、次世代半導体製造に向けた非独占的なクロスライセンス契約と協業に合意したと発表した。 協業により両社は…
Written on 9月 22, 2025 at 8:45 PM, by global-admin
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Categories: GNCレター, 記事一覧
Tags: EUV, JSR, Lam Research, リソグラフィ, 業務提携
富士フイルムは10月29日、先端半導体の製造プロセスに用いられるネガ型の極端紫外線(EUV)向けフォトレジストおよび現像液の販売を開始したと発表した。また、これに合わせ、静岡と韓国・京畿道平澤の2拠点でEUVレジストとE…
Written on 11月 5, 2024 at 7:37 PM, by global-admin
Tags: EUV, フォトレジスト, 富士フイルム
九州大学は7月26日、先端半導体に不可欠な極端紫外線（EUV）の照射と解析評価サービスを提供する新会社「EUVフォトン」を7月29日付で設立すると発表した。各企業が先端半導体向けの新素材などを開発する際、EUVの照射～解…
Written on 7月 30, 2024 at 2:16 PM, by global-admin
Tags: EUV, 九州大学
半導体検査装置を手掛けるレーザーテックは11月24日、High NA EUVリソグラフィに対応するEUVパターンマスク欠陥検査装置ACTIS「A300」シリーズを発表した。 同社ではこれまでに、EUVリソグラフィに対応す…
Written on 12月 5, 2023 at 1:37 PM, by global-admin
Tags: EUV, フォトマスク, レーザーテック, 半導体検査装置
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