Tag Archives: EUV

レーザーテック、次世代EUVに対応するパターンマスク欠陥検査装置、ACTIS A300を発表

半導体検査装置を手掛けるレーザーテックは11月24日、High NA EUVリソグラフィに対応するEUVパターンマスク欠陥検査装置ACTIS「A300」シリーズを発表した。同社ではこれまでに、EUVリソグラフィに対応す…

Written on 12月 5, 2023 at 1:37 PM, by global-admin

米国の半導体大手・Intelは9月27日、アイルランドのリークスリップにあるFab34の開設を正式に発表し、極端紫外線を用いた製造プロセス「Intel 4」を適用した量産を開始したと発表した。 Intel4の製造プロセス…

Written on 10月 3, 2023 at 9:52 AM, by global-admin

米マイクロンテクノロジーは日本国内の広島工場に5,000億円を投資し、最先端DRAMの量産に向けて広島工場の増強を実施することを発表した。今回の増強ではASML（蘭）のEUV（極端紫外線）露光装置や東京エレクトロンの関…

Written on 5月 23, 2023 at 10:49 AM, by global-admin

AGCは、2023年4月27日、子会社のAGCエレクトロニクスの本宮工場で生産を行うEUV露光に用いられるフォトマスクブランクスについて、生産能力を増強することを発表した。生産能力を増強するラインは、2024年1月から…

Written on 5月 1, 2023 at 2:42 PM, by global-admin