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富士フイルム、EUVレジストとEUV現像液の販売を開始

富士フイルムは10月29日、先端半導体の製造プロセスに用いられるネガ型の極端紫外線(EUV)向けフォトレジストおよび現像液の販売を開始したと発表した。また、これに合わせ、静岡と韓国・京畿道平澤の2拠点でEUVレジストとE…

Written on 11月 5, 2024 at 7:37 PM, by global-admin

九州大学は7月26日、先端半導体に不可欠な極端紫外線（EUV）の照射と解析評価サービスを提供する新会社「EUVフォトン」を7月29日付で設立すると発表した。各企業が先端半導体向けの新素材などを開発する際、EUVの照射～解…

Written on 7月 30, 2024 at 2:16 PM, by global-admin

半導体検査装置を手掛けるレーザーテックは11月24日、High NA EUVリソグラフィに対応するEUVパターンマスク欠陥検査装置ACTIS「A300」シリーズを発表した。同社ではこれまでに、EUVリソグラフィに対応す…

Written on 12月 5, 2023 at 1:37 PM, by global-admin

米国の半導体大手・Intelは9月27日、アイルランドのリークスリップにあるFab34の開設を正式に発表し、極端紫外線を用いた製造プロセス「Intel 4」を適用した量産を開始したと発表した。 Intel4の製造プロセス…

Written on 10月 3, 2023 at 9:52 AM, by global-admin