富士フイルムは10月29日、先端半導体の製造プロセスに用いられるネガ型の極端紫外線(EUV)向けフォトレジストおよび現像液の販売を開始したと発表した。また、これに合わせ、静岡と韓国・京畿道平澤の2拠点でEUVレジストとE…
Written on 11月 5, 2024 at 7:37 PM, by global-admin
No Comments
Categories: GNCレター, 記事一覧
Tags: EUV, フォトレジスト, 富士フイルム
富士フイルムは4月30日、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料「ナノインプリントレジスト」を5月下旬より、同社子会社で電子材料を手がける富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズを通して販売す…
Written on 5月 7, 2024 at 6:15 PM, by global-admin
Categories: GNCレター
Tags: ナノインプリント, フォトレジスト, 富士フイルム
富士フイルムは2023年5月10日、米Entegris社の半導体用プロセスケミカル事業担当子会社「CMC Materials KMG Corporation(KMG)」(米テキサス州)を買収することを発表した。KMGの全…
Written on 5月 15, 2023 at 2:18 PM, by global-admin
Tags: Entegris, 事業再編, 富士フイルム
富士フイルムは2022年12月13日、半導体材料の韓国現地法人であるFUJIFILM Electronic Materials Koreaが、韓国・平澤市にイメージセンサー用カラーフィルタ(CF)材料を生産する新工場を建…
Written on 12月 20, 2022 at 1:14 PM, by global-admin
Tags: 半導体材料, 富士フイルム