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Tag Archives: フォトレジスト

富士フイルム、EUVレジストとEUV現像液の販売を開始

富士フイルムは10月29日、先端半導体の製造プロセスに用いられるネガ型の極端紫外線(EUV)向けフォトレジストおよび現像液の販売を開始したと発表した。また、これに合わせ、静岡と韓国・京畿道平澤の2拠点でEUVレジストとE…

富士フイルム、ナノインプリント向けレジストを5月下旬より販売開始

富士フイルムは4月30日、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料「ナノインプリントレジスト」を5月下旬より、同社子会社で電子材料を手がける富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズを通して販売す…

富士フイルム、台湾でスラリーや現像液の生産に向けた新工場を建設へ

富士フイルム株式会社は、電子材料事業の更なる拡大を狙い、台湾の新竹市湖口工業団地に新たな工場を建設することを発表した。さらに、既存の台南工場でも、設備投資を実施し、建設中の新棟にCMPスラリーの製造設備等を導入し、202…

製造装置のLam ResearchとメモリのSK-Hynix、ドライレジスト技術開発で提携

米製造装置大手のLam Research社と韓国のメモリ製造大手SK-hynix社は2022年6月14日、SK-hynixの先端DRAM製造における2つのキープロセス開発のためのツールとして、Lamのドライレジスト製造技…

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