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富士フイルム、PFASフリーのネガ型ArF液浸露光向けフォトレジストを開発

富士フイルムは2025年7月15日、先端半導体の製造プロセス向けに、環境や生態系への影響が懸念される有機フッ素化合物(PFAS)を一切使用しないフォトレジストを開発したと発表した。ネガ型ArF液浸露光向けで、車載や産業用…

Written on 7月 22, 2025 at 9:40 AM, by global-admin

富士フイルムは10月29日、先端半導体の製造プロセスに用いられるネガ型の極端紫外線(EUV)向けフォトレジストおよび現像液の販売を開始したと発表した。また、これに合わせ、静岡と韓国・京畿道平澤の2拠点でEUVレジストとE…

Written on 11月 5, 2024 at 7:37 PM, by global-admin

富士フイルムは4月30日、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料「ナノインプリントレジスト」を5月下旬より、同社子会社で電子材料を手がける富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズを通して販売す…

Written on 5月 7, 2024 at 6:15 PM, by global-admin

富士フイルム株式会社は、電子材料事業の更なる拡大を狙い、台湾の新竹市湖口工業団地に新たな工場を建設することを発表した。さらに、既存の台南工場でも、設備投資を実施し、建設中の新棟にCMPスラリーの製造設備等を導入し、202…

Written on 5月 23, 2023 at 10:09 AM, by global-admin