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Tag Archives: CMPスラリー

富士フイルム、先端パッケージ向けCMPスラリー新製品を発売

富士フイルム株式会社は2025年9月29日、複数の半導体チップを一つのパッケージに実装する先端パッケージング技術向けの研磨剤「CMPスラリー」の新製品を発売した。AI半導体の性能向上に不可欠とされるハイブリッドボンディン…

富士フイルム、ベルギーの生産拠点にCMPスラリーの生産設備を導入

富士フイルムは2月5日、半導体材料事業を拡大するため、ベルギーの生産拠点にCMPスラリーの生産設備を新たに導入すると発表した。投資総額は約40億円。車載用半導体や産業用半導体を製造する欧州のメーカーへの供給を目指す。 同…

韓・Dongjin SemichemがSK-HynixにHBM用CMPスラリーの供給開始

韓国の半導体材料メーカー・Dongjin Semichem(以下 Dongjin)が韓国の大手半導体メーカであるSK-Hynixに対してHBM用CMPスラリーの供給を開始したことが3月6日、明らかになった。   これまで…

富士フイルム、台湾でスラリーや現像液の生産に向けた新工場を建設へ

富士フイルム株式会社は、電子材料事業の更なる拡大を狙い、台湾の新竹市湖口工業団地に新たな工場を建設することを発表した。さらに、既存の台南工場でも、設備投資を実施し、建設中の新棟にCMPスラリーの製造設備等を導入し、202…

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