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富士フイルムは2025年7月15日、先端半導体の製造プロセス向けに、環境や生態系への影響が懸念される有機フッ素化合物(PFAS)を一切使用しないフォトレジストを開発したと発表した。ネガ型ArF液浸露光向けで、車載や産業用…

富士フイルムは2月5日、半導体材料事業を拡大するため、ベルギーの生産拠点にCMPスラリーの生産設備を新たに導入すると発表した。投資総額は約40億円。車載用半導体や産業用半導体を製造する欧州のメーカーへの供給を目指す。 同…

富士フイルムは10月29日、先端半導体の製造プロセスに用いられるネガ型の極端紫外線(EUV)向けフォトレジストおよび現像液の販売を開始したと発表した。また、これに合わせ、静岡と韓国・京畿道平澤の2拠点でEUVレジストとE…

富士フイルムは4月30日、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料「ナノインプリントレジスト」を5月下旬より、同社子会社で電子材料を手がける富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズを通して販売す…