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Tag Archives: 半導体製造装置

ニコン、ArF液浸露光装置「NSR-S636E」を発売

ニコンは、2021年に開発を発表していた半導体製造に使う新型露光装置「NSR-S636E」を2024年1月に発売すると発表した。回路パターン微細化と半導体デバイス構造の三次元化に対応し、光源に「フッ化アルゴン(ArF)」…

EVG、無機の剥離材料を使用し、赤外線レーザー剥離を用いたキャリア剥離装置を発表

オーストリアの半導体製造装置大手EVGは、2023年12月7日、EVG850NanoCleaveレイヤー剥離装置を発表した。 このEVG850 NanoCleaveシステムは、赤外線(IR)レーザーと量産(HVM)対応プ…

ASML、ピーター・ウェニンクCEOが退任、クリストフ・フーケ氏が後任へ

半導体露光装置最大手の蘭・ASMLは11月30日、ピーター・ウェニンク最高経営責任者(CEO)兼共同社長が、任期満了を迎える2024年4月24日に退任し、後任にクリストフ・フーケ最高ビジネス責任者(CBO)を起用すると発…

SCREEN 、薬液供給キャビネット組み立ての為の高岡事業所を開設

半導体や液晶の製造装置国内大手のSCREENホールディングスは8月22日、富山県高岡市に高岡事業所を開設し、8月23日より操業を開始すると発表した。鉄骨造2階建て、延べ床面積約8千平方メートルで総工費は55億円。 同事業…

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