東京エレクトロン、フジキン、TMEICの3社は5月31日、半導体製造工程の成膜プロセスにおけるオゾンガス濃度を管理する新型モニターを開発したと発表した。

成膜プロセスでは、各種酸化膜形成等にオゾンガスが使用されており、オゾンガス発生装置や発生状況を監視するためにオゾンガス濃度モニターが必要となる。オゾンガスの濃度計測方式の一つに、紫外領域の波長を強く吸収するオゾンの性質を利用した「紫外線吸収法」があり、その光源として従来は水銀UVランプが使用されてきたが、有害物質を含有し、定期的な交換が必要であるという問題点が存在した。

今回３社が開発した新型オゾンガス濃度モニターはLED UVランプ方式で、従来同等以上の高い信頼性を有する性能であるほか、水銀不使用、LED化により10年以上ランプ交換が不要になるなど、従来の問題点を解消した。また、消費電力についても、LED化により従来の25Wから3Wにまで削減した。

なお、今回の連携では、東京エレクトロンとフジキンがオゾンガス濃度モニター本体を開発し、TMEICがオゾンガス発生装置に搭載し、モニターの検証を行った。これにより、東京エレクトロンの半導体製造装置及び付帯設備など様々な領域に適用が可能になったということである。