半導体検査装置を手掛けるレーザーテックは11月24日、High NA EUVリソグラフィに対応するEUVパターンマスク欠陥検査装置ACTIS「A300」シリーズを発表した。

同社ではこれまでに、EUVリソグラフィに対応する製品として、EUVパターンマスク検査装置のACTIS「A150」シリーズを販売しており、優れた検査性能から市場で高い評価を得ている。ところが、High NAリソグラフィではXY方向の投影倍率が異なるアナモルフィック光学系が採用され、それぞれの方向で異なる解像度が求められるため、「A150」シリーズではこれに対応することが出来なかった。「A150」シリーズの次世代機として今回新たに発表された「A300」シリーズでは現行のリソグラフィ向けとHigh NAリソグラフィ向け、両方のEUVマスク検査に対応している。

また、「A300」シリーズでは新たに設計された光学系や、同社が10月に発表した高輝度EUVプラズマ光源「URASHIMA」を採用し、「A150」シリーズと比較して非常に高い欠陥検出性能を実現しているという。

同社は半導体微細化に欠かせない高度な検査装置で競合の追随を許さず、市場は実質一人勝ちとなっている。新たに開発した光源が搭載された最先端装置の「A300」シリーズの発表により、その座は一層揺るぎないものになる。同社は「今後も最先端半導体メーカーのご要望にお応えし、独自のソリューション開発、品質改善、生産性向上と業界の発展に貢献していく」としている。