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Tag Archives: 半導体露光装置

キヤノン、高精度のアライメント計測装置を発売

キヤノンは2023年2月21日、数百点におよぶウェーハ上のリソグラフィ用アライメントマークを一括計測できる新装置「MS-001」を発売した。露光装置に導入前に一括計測することで、露光装置内でのアライメント計測負荷を軽減し…

キヤノン、後工程向けステッパの新製品を発売

半導体露光装置大手のキヤノンは2022年12月6日、半導体製造の後工程向けの半導体露光装置(ステッパ)の新製品として、0.8μmの高解像力と繋ぎ露光による100×100mmの超広画角の露光を可能にしたi線ステッパ「FPA…

キヤノン、半導体製造装置新工場を建設へ

キヤノンは2022年10月6日、宇都宮事業所に露光装置などの半導体製造装置のための新工場を建設することを発表した。新工場は敷地面積約7万m²、投資額は建設費約380億円を含めて500億円を上回る規模となる見込み。 スケジ…

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