Tag Archives: EUV露光装置

半導体製造装置大手、蘭ASMLは4月16日、2025年第1四半期(1～3月)の決算を発表した。売上高は前期比16.4%減、前年同期比46.4%増の77億4,200万ユーロ、純利益は前期比12.6%減、前年同期比92.4%…

半導体製造装置大手、蘭ASMLは2025年3月11日、ベルギーの半導体研究開発機関、imecと新たな戦略的パートナーシップを締結したと発表した。期間は5年間で、半導体技術の進歩と持続可能なイノベーションを目指す。 このパ…

2024年12月14日、先端半導体の国産化を目指すRapidusの工場内に設置される極端紫外線(EUV)露光装置を載せた貨物機の第1便がオランダから新千歳空港に到着した。同装置は蘭ASMLが製造するもので、国内に導入され…

6月5日、蘭の半導体製造装置メーカー、ASMLが最新の半導体製造装置を年内に台湾・TSMC向けに出荷することが明らかになった。 ASMLのロジャー・ダッセンCFO（最高財務責任者）は、同社の2大顧客であるTSMCと米In…