Tag Archives: EUV露光装置

RapidusにEUV露光装置が到着

2024年12月14日、先端半導体の国産化を目指すRapidusの工場内に設置される極端紫外線(EUV)露光装置を載せた貨物機の第1便がオランダから新千歳空港に到着した。同装置は蘭ASMLが製造するもので、国内に導入され…

Written on 12月 17, 2024 at 9:57 AM, by global-admin

6月5日、蘭の半導体製造装置メーカー、ASMLが最新の半導体製造装置を年内に台湾・TSMC向けに出荷することが明らかになった。 ASMLのロジャー・ダッセンCFO（最高財務責任者）は、同社の2大顧客であるTSMCと米In…

Written on 6月 10, 2024 at 6:47 PM, by global-admin

オランダの半導体露光装置最大手、ASMLは4月17日、2024年第1四半期の業績を発表した。これによると、売上高は52億9,000万ユーロで前期比27％減、前年同期比22％減となった。また、純利益は12億2,400万ユー…

Written on 4月 22, 2024 at 6:00 PM, by global-admin

半導体露光装置最大手の蘭・ASMLは11月30日、ピーター・ウェニンク最高経営責任者(CEO)兼共同社長が、任期満了を迎える2024年4月24日に退任し、後任にクリストフ・フーケ最高ビジネス責任者(CBO)を起用すると発…

Written on 12月 5, 2023 at 1:41 PM, by global-admin