PVD,CVDと比較して、成膜精度が高く、高アスペクト比のホール、ポーラス、ナノワイヤーへの成膜が可能です。
その他比較的低温で成膜可能なため、温度による歪みが起きにくい特徴があります。

対応スペック

ALDの対応スペック画像
基板種類 Siウエハ,各種ガラス基板,Al系基板,Si系基板（SiC等）
基板サイズ 2インチ〜300mm
成膜種 酸化膜（Al2O3, TiO2, HfO2, ZrO2, TiN, AlN, Co, Ru等）
プラズマガス種 Ar O2 H2

加工実績

300mm Si Al2O3 　20nm 成膜
8インチ Si TiN 　 20nm 成膜