ターゲットの変更により、多様な成膜に対応することが可能です。

対応基板 Si,サファイア,ガラス,化合物ウエハ等
サイズ 2インチ〜12インチ（一部個片にも対応可能。）
膜厚 ターゲット、種類により異なります。ご相談下さい。

対応スペック

スパッタリング

PVDの対応スペック画像
金属膜 Al, Al-Si, Al-Si-Cu, Al-Cu, AlNd, Al2O3, Ti,
TiNmTiC, Ti-W(10:90), TiC, Ti-Ni(50:50), TiO2
Ta, TaN, TaC, TaSiO2, Ta2O5, Cr, Cu, CuO,
W, WC, W-Si(0.8), WO3, Ni, Au, Ag, Ag+Pd(5%)
Co, Mo, MoSi(2.0), MoNb, Mg, Zn, ZnO, V, Pd, Ru,
Sn, Fe, Si, SiC, Pt, Zr, Nb, Nb2O5, SUS304, SUS316
高分子素材 テフロン、フェノール、ポリエチレン、ポリアミド、ポリイミド、PET, PEEK, LaF2
カーバイド C, ZrC, B4C, SiC, グラッシーカーボン
ホウ化物 WB, TiB2, LaB6
蒸着 Al, In, Au, Ag, Cr, Ge, Si, Sn, Ti, Cu, Nb, Ni, Pt