米国の半導体大手、Micron Technology が広島県に整備する次世代型の半導体新工場の設備投資に対し、経済産業省は新たに最大1,920億円規模の補助を検討していることが9月28日に明らかになった。同社は2026年頃より同新工場で最先端の半導体メモリを量産する計画であり、今回の支援は製造ラインの増設などに充てられる見込みである。

同社は新工場で、「1γ（ガンマ）世代」と呼ばれる最先端のDRAMを開発し、生産ラインを設ける計画である。この半導体は生成人工知能（AI）などの最先端アプリケーションに必須とされ、政府は最大250億円を助成して研究と開発を支える。回路の形成には、少ない工程でより細かな回路を形成できるEUV露光装置を量産用では国内で初めて導入する方針であり、これに対して最大1,670億円を助成する。

今回の補助は、政府が2021年に改正した「特定高度情報通信技術活用システム開発供給導入促進法（５Ｇ促進法）」に基づいたものである。経済産業省は昨年にもMicronの新工場へ最大465億円となる補助を決めており、今回の補助と合わせて総額は最大2,400億円規模となる。支援の増加により、DRAMを国内で安定供給できる体制を強化する狙いがあるとみられる。正式発表は10月上旬となる見込み。