半導体製造装置大手、蘭ASMLは2026年1月28日、2025年第4四半期及び2025年通期の決算を発表した。第4四半期の売上高は前期比29%増の97億1,800万ユーロで過去最高を更新した。同四半期の純利益は同34%増の28億4,000万ユーロとなった。また、通期の売上高は前年比16%増の326億6,700万ユーロ、純利益は同27%増の96億900万ユーロとなった。

同社の社長兼CEOを務めるChristophe Fouquet 氏は、「ここ数か月、多くの顧客が中期的な市場環境について、以前よりも明確に前向きな見通しを示している」とし、「これは主に、AI 関連需要の持続性に対するより強固な期待に基づくものだ」と述べた。AI向けの先端半導体の製造には、現状同社のみが製造するEUV露光装置が不可欠であり、AI普及による先端半導体需要の拡大が同社の業績を押し上げた。

同社の2025年通期の装置売上高は前年比39%増の244億7,400万ユーロで、そのうち48%がEUV露光装置となり、同装置の比率についても前年から増加した。EUV露光装置の具体的な出荷台数は48台で前年より4台増加した。なお、この中には高NA EUV露光装置も8台が含まれており、うち6台が稼働中であるという。稼働中の装置の中には第2世代製品である「TWINSCAN EXE:5200B」も含まれているという。

用途別割合ではロジック向けが66%、メモリ向けが34%。地域別の売上高割合では中国は前年より比率が減少したものの、33%で依然第1位で、韓国25%、台湾22%と続く。特に台湾は前年の11%から大きく増加した。世界最大のEUVユーザーである台TSMCが先端向け投資を加速させた。

ASMLは2026年第1四半期及び通期の業績予想についても発表。第1四半期の売上高は82億～89億ユーロ、通期の売上高は340億～390億ユーロと予想した。同社のCFOのRoger Dassen氏は業績予想と関連して、「EUV露光装置の売上高は、需要増を背景に大幅に成長すると見込んでいる。それ以外の売上高は全体としては横ばいだが、先端ロジックやメモリ向けでは需要が増加するだろう」と述べた。

出典：ASML Press Release & Announcements