アルバックは2021年7月30日、イオンミリング装置「IM-2000」の販売を8月から開始することを発表した。同装置は、５G高周波フィルター向けの、SAW、BAWデバイス上に成膜されたシリコン酸化膜（SiO2）、シリコン窒化膜（Si3N4）の膜厚データをもとに、サブナノメートルレンジでの膜厚コントロールで、±1.0nm以下の平坦化を実現している。
Arガスミリングによる、SiO2、Si3N4の加工だけでなく、フッ素系ガス（SF6, NF3）を用い、LT、Moなどのメタル膜を削ることもできる。AlNのRaの改善や、レジストマスクを使用したデバイス処理時のレジスト残りを低減できる。
2022年4月以降の量産機納入を目指して、更なる性能向上を図っていく。
今後は2022年まで国内販売5〜10台、海外販売20〜50台を見込んでいる。