米マイクロンテクノロジーは日本国内の広島工場に5,000億円を投資し、最先端DRAMの量産に向けて広島工場の増強を実施することを発表した。

今回の増強ではASML（蘭）のEUV（極端紫外線）露光装置や東京エレクトロンの関連装置が導入される予定で、1γ（ガンマ）世代と呼ばれる製品の量産を目指す。これによって、Micronは日本国内で唯一量産にEUV技術を導入する企業となる。

経済産業省は現在、日本国内での最先端の半導体製造、供給網の強化、デジタル経済の構築を目的とした戦略を導入しており、今回の増強5,000億円の中でも2,000億円は日本政府からの助成を受ける見込み。同社は昨年にも広島工場の増強費として政府から465億円の助成を受けている。その際は現在最先端である1β（ベータ）世代と呼ばれる製品の量産が助成理由であった。

また、Micronは記者会見を5月22日に開催し、2024年にEUV露光装置導入の認定を取得、2025年に導入開始、2026年に生産開始を行なっていくスケジュールを発表している。