ジャパンディスプレイ（JDI）と出光興産は2022年6月21日、多様なディスプレイに適用できる多結晶酸化物半導体「Poly-OS（Polycrystalline Oxide Semiconductor）」の開発に成功したことを発表した。 Poly-OSは、出光興産が開発した多結晶酸化物半導体材料「IGO（Indium Gallium Oxide）」などの多結晶酸化物半導体材料技術とJDI独自のバックプレーン技術を融合させることで、第6世代量産ラインで高移動度と低オフリーク電流を両立、ディスプレイの性能向上に大きく貢献するだけでなく、第8世代以上の大型ラインへの適用も可能で、ディスプレイ製造の低コスト化にも大きく寄与することが期待できる。
酸化物半導体材料はキャリア濃度の制御が難しく、安定的なTFT特性を得ることが困難という課題があった。これに対してJDIでは長年培ってきたCVD/スパッタ/アニール/エッチングといったプロセスノウハウを融合することで、高移動度かつ低いオフリーク電流を有する安定的なTFT動作を可能にすることに成功した。