台湾Nanya Technology社は2021年4月20日、台湾・新北市の Taishan Nanlin Technology Parkに先端DRAM向けに300mmウェーハ対応工場を建設する計画を発表した。
新工場ではNanyaが独自開発したEUVリソグラフィを利用する10nmプロセスで製造を行う。製造には。新工場は2階建て構造のクリーンルームを採用。建設は3期に分けて行ない、7年以内の完成を目指す。総投資額は約3,000億台湾ドル（NTドル）を計画している。
第1期分は2021年後半に起工、2023年内に竣工、2024年からの量産稼働を目指す。生産能力は月産4万5,000枚を予定している。新工場の建設により、2,000名のハイテク関連雇用の創出が見込まれている。