半導体製造装置大手、米Applied Materials(AMAT)は2026年3月10日、メモリ大手の米Micron Technology及び韓SK hynixと相次いで協業することを発表した。両社はAMATが米シリコンバレーに新設するEPICセンターの創立パートナーとなる。

EPICセンターはAMATが50億ドル規模を投資して建設している半導体製造装置及びプロセスの研究開発拠点。18万平方フィート(約1万7,000平方メートル)のクリーンルームを設置するほか、半導体メーカーが「自社専用スペース」を持つことで、各社がAMATの研究開発ポートフォリオに早期にアクセスでき、次世代プロセス・材料の共同開発拠点としての活用が期待されている。

今回の協業により、MicronはAI用途向けの次世代DRAM、HBM、NANDの開発に向け、次世代材料、アーキテクチャ、プロセス技術を開発する。また、高帯域幅、低消費電力メモリソリューションを実現する先端パッケージングの開発にも取り組む。EPICセンターに加え、アイダホ州ボイジーにあるMicronの最先端イノベーションセンターの先進的な研究開発能力を結集し、米国における半導体イノベーションのパイプラインの強化も目指す。

一方、SK hynixはEPICセンター内に技術者を常駐させ、AMATと同じクリーンルーム内で共同作業をすることにより、特に次世代HBMの実現に向け、新材料の探索、統合アプローチ、熱管理技術の開発し、将来のメモリアーキテクチャの性能と製造性を向上させることを目指す。加えて、AMATがシンガポールで展開する業界最先端の先端パッケージング研究開発能力も活用しつつ、3D先端パッケージングの技術向上も目指す。

Micron Technology の会長兼社長、CEOである Sanjay Mehrotra 氏は、「今回、Applied の新しいEPICセンターへ協力を拡大できることを嬉しく思う」とし、「Micron の米国内の研究開発および製造拠点と組み合わせることで、米国のメモリイノベーションを前進させる独自の“ラボからファブへ”のパイプラインが構築される」と期待した。

SK hynix の社長兼CEOである Nohjung Kwak 氏は、「AIの進歩における最大の障壁の一つは、メモリ速度とプロセッサ性能の乖離が拡大していることだ」としたうえで、AMATとのEPICセンターでの協業により、「AIに最適化された次世代メモリソリューションのロードマップを提供できることを楽しみにしている」と述べた。

出典：Applied Materials News Release