半導体材料大手のナガセケムテックス株式会社とその親会社である大手商社の長瀬産業、そして米国のレジスト現像液製造大手のSachem Inc.は、半導体製造に使用される高純度現像液（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド：通称 TMAH）の回収・再生事業を展開することを発表した。

これは、3社の合弁会社で現像液の再生事業を手掛けるSN Tech Corporation（以下「SN Tech」）が電解・精製技術を導入し新工場を東大阪に設立する計画だという。半導体産業において、使用済みTMAH廃液を回収・再生し、再びTMAHとして再利用する取り組みは国内初の事例となるとしている。また、SN Tech株式会社は現像液の廃液を原料として回収するプラント“Green Mobius System”の製造・販売も半導体工場向けに実施していくという。 フォトリソグラフィ工程では、回路形成時に半導体用高純度現像液（TMAH）が必要となるが、従来TMAHの再生には高度な電解・精製技術を要することから回収・再生による再利用は困難とされ、半導体製造事業において環境負荷や収益面での課題となっていた。

SN Techでは、液晶パネルの製造で使用される現像液の回収・再生事業に2008年から取り組んできたが、この技術力とノウハウを生かすことで、より高度な電解・精製技術を必要とするTMAHの再利用とそのモデルケースの確立に取り組むという。これにより、半導体製造工場のTMAH及び水の再利用と安定調達、エネルギー削減により、コスト競争の激化が続く半導体事業における収益性改善と、世界中の企業が対応を迫られている持続可能な環境配慮ビジネスモデルでの実現が期待できる。今後は、日本国内で年間10,000トンの高純度現像液を製造する計画だという。このビジネスモデルをモデルケースとし、国内のみならず海外に向けての展開も視野に入れ、半導体関連事業の拡大を目指していく。