信越化学工業は2020年10月15日、フォトレジスト事業の日本と台湾の製造拠点に合計300億円の設備投資を行うことを発表した。対象となるのは、台湾の信越電子材料（台湾）（台湾・雲林県）と信越化学の直江津工場。
信越電子材料（台湾）では、2019年夏に第1期工事を終了、同地での生産を開始、生産拠点の複数化を実現した。同年9月には新工場棟に着工している。新工場棟は2021年2月まで工事完了をめざしている。今回の投資により新工場の生産能力をさらに増強する。
直江津工場でも、新工場棟を建設する計画である。2020年10月中に着工し、2022年2月までの竣工を目指している。
信越化学工業はKrF、ArFからEUVまでの光源に対応したフォトレジストを提供しており、台湾ではTaiwan Semiconductor Manufactruing（TSMC）社向けでは、主力サプライヤの一つとして大きな実績を残している。新工場の建設により、EUV向けを含む最先端レジストの生産能力の強化を図る。