JX金属は2025年6月23日、次世代半導体向けCVD・ALD材料の生産能力拡大に向けて進めていた、子会社の東邦チタニウム茅ケ崎工場内の生産設備増強が完了し、フル稼働を開始したと発表した。

CVDやALDは先端ロジックプロセスや3D NAND、1Xnm世代のDRAMプロセスなどの微細化や多層化を実現するために欠かせない半導体製造工程。データセンターやAI向けをはじめとする先端半導体の需要増加に併せて材料のニーズも増加している。

同社ではCVDやALD材料として従来、配線間ビアホールやコンタクトホール向けに用いられていたタングステンに代わる次世代プロセス材料として、モリブデン化合物を製造している。配線抵抗の増加、ノイズの増大といった課題を解決するとともに、自社保有の高純度化技術による不純物の低減により、歩留まりの向上も期待できるとしている。

同社は次世代半導体向けの需要の高まりに対応するため、同材料の生産能力の拡大を計画。2024年6月に数十億円を東邦チタニウム茅ケ崎工場に投資することを決定し、1年かけて設備を増強した。

また、同社は茨城県日立市の自社工場でも生産設備の導入を進めており、2025年度下期から稼働予定となっている。東邦チタニウム茅ケ崎工場と合わせて、同材料の生産能力を2026年度に現在の年数十トンから3倍ほどの規模に拡大し、同材料による収益を営業利益ベースで100億円規模に成長させる計画である。

出典：JX金属　ニュースリリース