既存マスクを利用してマスクパターン形成し
LS=50nmや200nmなどの微細パターンを
高アスペクトエッチング加工が可能です。

対応スペック

基板サイズ Φ4インチ・Φ300㎜
300㎜既存マスクデザイン Min:50nm～パターン
8インチ既存マスクデザイン Min:200nm～パターン
アスペクト 別途相談

実績写真

微細パターンエッチングの加工実績画像

L/S＝200/200nm
(depath 6μm)


微細パターンエッチングの加工実績画像

L/S＝250/200nm
(Non bosch)