東京応化工業(TOK)は2026年2月24日、EUVリソグラフィ向けフォトレジストの開発を加速するため、英Irresistible Materials(IM)と共同開発パートナーシップを締結し、同社に対し戦略的投資を実施すると発表した。

IMは英バーミンガムに本社を置き、次世代EUVリソグラフィ向けフォトレジストの開発を専門的に手掛ける。同社が特許を持つフォトレジスト材料Multi-Trigger Resist(MTR)は、従来のポリマー性フォトレジストに比べ、分子サイズが10分の1と小さく、低NA および高NA の EUVリソグラフィの双方において、解像度、ライン幅ラフネス(LWR）、ラインエッジラフネス(LER）、感度、吸収率、欠陥率、エッチング耐性といった複数の主要指標で、競合技術を上回る優れた描画性能を実現するという。同材料はIDM(Integrated Decice Manufacturer)およびファウンドリが求める性能要件を満たし、EUVデバイス製造におけるコスト削減に貢献することも期待されている。

TOKはIMが開発したMTRが化学増幅型レジスト(CAR)や金属酸化物レジスト(MOR)を補完する強力な技術であることを高く評価し、出資を決定した。IMはTOKの出資金を人財拡充および設備・材料・施設などインフラの強化に活用するとしている。また、蘭ASMLやベルギー・imecなどとの連携を強化し、EUVリソグラフィにおける主要な課題解決に向けた開発に注力するとしている。

一方、TOKは同社のレジストポートフォリオを補完するため、IMのMTRプラットフォームを活用するとするほか、自社の製造能力や品質管理プロセスを活用し、MTRの量産の強化を推進するとしている。

IMのCEOを務めるDinesh Bettadapur氏は、「TOK の優れた製造能力と強固な顧客基盤は、当社独自の MTR 材料の迅速な商業化と量産へのス ケールアップを後押しする理想的な組み合わせだ」とし、「今後の強固な協業体制の構築を楽しみにしている」と述べた。

また、TOKの取締役執行役員 開発本部長を務める大森克実氏は、「今回のパートナーシップにより、IM 社の革新的な MTR プ ラットフォームの共同開発と事業化をこれまで以上のスピードで進め、半導体業界全体の EUV リソ グラフィを前進させる新たなフォトレジスト技術の時代を切り拓いていく」と述べた。

出典：東京応化工業　プレスリリース