マスク欠陥検査装置大手のレーザーテックは、2023年9月12日、マスク検査装置向けの高輝度EUVプラズマ光源を開発したことを発表した。

「URASHIMA」と名付けられた高輝度EUVプラズマ光源は、同社の主力EUVマスク欠陥検査装置 「ACTIS」シリーズに搭載し、さらなる性能向上を目指すとしている。

この「URASHIMA」では、高速回転する液体状のSnにレーザーを照射してEUV光を発生させるLPP（Laser Produced Plasma）方式を採用した。ACTISの光学系に最適化した設計によってペリクルへの入熱を最小限に抑えることで、ペリクルの劣化を防止しながらペリクル付きマスクの高輝度照明による高感度検査を可能にしたという。

また、Snを使ったEUV光源では、デブリの抑制が重要な課題のひとつとされており、「URASHIMA」では当社が独自に開発したデブリミチゲーションシステムを用いることで、マスクがデブリで汚染されることのないデブリフリーのEUV光源を実現した。さらに照明光学系のコンタミネーションも抑制し、従来を上回る生産性を実現した。