産業ガス事業を手掛ける大陽日酸は7月31日、次世代パワー半導体材料として注目される酸化ガリウム（Ga2O3）ウエハの開発、製造、販売及びパワーデバイスの開発を行うノベルクリスタルテクノロジー社に出資すると発表した。

酸化ガリウムを材料としたパワー半導体は、窒化ガリウム（GaN）、炭化ケイ素（SiC）などを材料としたパワー半導体よりも高出力、高効率な特性が得られることが期待される。それらの特性により、 家電、電気自動車、鉄道車両、産業用機器、太陽光発電、風力発電などのパワーエレクトロニクス 機器のさらなる低損失化が可能となる。ノベルクリスタルテクノロジー社は世界でもいち早くパワー半導体用酸化ガリウムウエハの開発や製造、販売に着手した実績を持っている。

今回の出資により、大陽日酸はノベルクリスタルテクノロジーとの連携を強化し、酸化ガリウムのエピウエハ製造に使用する量産型酸化ガリウムエピ成膜装置の開発を加速化させる見込みである。

また、大陽日酸のほかにも、三菱電機、タムラ製作所などが同社への投資を決めており、ノベルクリスタルテクノロジーは総額9億5,000万円を調達することとなる。各企業からの投資を受けて、次世代パワー半導体材料の研究開発を更に加速化させる構えである。