光学システムの名門、独 Carl Zeiss社は、ドイツのヘッセン州ヴェツラーに、DUV露光装置用光学部品の新工場建設を開始したことを発表した。工場の規模は12,000m²を予定している。Carl Zeissでは、ヴェツラーを長年、半導体製造装置部品の開発、生産の拠点としてきたが、既存施設では生産が限界に達してきたという。今回の拡張により、今後は開発と生産の両分野を中心に、150名程度のスタッフを雇用していく。2025年の完成を予定しているという。

ZEISSでは、365ナノメートル、248ナノメートル、193ナノメートルの波長に対応した光学系を製造しており、世界の半導体チップの80％以上は、このZEISSの光学部品を使って製造されているとしている。世界最大の露光装置メーカーであるASMLに対しても供給を行なってきた。