米Applied Materials(AMAT)社は2023年2月28日、EUVや高NA EUVリソグラフィで露光された微細パターンを高精度に計測することのできる新しい電子ビーム（EB）測長装置「VeritySEM 10」を発表した。
最先端リソグラフィにおける測長プロセスでは、極薄化したフォトレジストが塗布される狭いスペースに、細いEBを正確に照射する必要がある。また、使用するEBの照射エネルギー（Landing Energy）が高すぎるとレジストが縮小し、パターンが歪む可能性がある。　新製品である「VeritySEM 10」では、低エネルギーで従来のCD-SEMの2倍の解像度を実現する独自アーキテクチャを採用している。走査も30％高速化、フォトレジストの反応を抑えるとともにスループットも向上している。
「VeritySEM 10」は大手ロジック、メモリメーカから大きくの引き合いを得ており、すでにこの1年間で30台以上が出荷されている。