材料評価用大型パネル対応CMP装置(POLI-1300PCB)

材料評価用大型パネル対応CMP装置(POLI-1300PCB)の画像
材料評価用大型パネル対応CMP装置(POLI-1300PCB)の画像
外形寸法 W2,000 ✕ D2,600 ✕ H2,500
重量 約 4,000 kg
プラテン Φ1,300 mm(52 inch)
ヘッド径 930mm
ヘッド回転機構 30-100 rpm
荷重 230 kgf – 1370 kgf
ワークサイズ ワークサイズ: max. 25”×25” or Φ900 mm
スラリーポンプ 蠕動ポンプ / 流量: max. 1,500 ml/min
スイングアームブラシコンディショナー
特徴 手動ローディング
PLC & HMI, タッチパネル
製造元 韓国 G&P Technology社

化合物半導体向け CMP装置(POLI-610)

化合物半導体向けCMP装置(POLI-610)の画像
化合物半導体向けCMP装置(POLI-610)の画像
寸法 W: 1,200 ✕ D: 1,290 ✕ H: 1,960
プラテンサイズ Φ 635 mm (25 inch)
ヘッド回転機構 30 ~ 150 rpm,回転機構
ヘッド揺動 ± 15mm
ヘッドチャックサイズ Φ 240 mm
3インチウエハ / run = Max 8 枚
4インチウエハ / run = Max 6 枚
プレス方式 可変エアー圧電子制御式
キャリアタイプ:120 kg
プロセス 自動シーケンス、ドライイン/ウェットアウト
ダブルヘッド方式
調整ヘッド オシレーティングヘッドタイプ
製造元 韓国 G&P Technology社

全自動Dry-in / Dry-out CMP装置(GPC-300A)

全自動Dry-in / Dry-out CMP装置(GPC-300A)の画像
全自動Dry-in / Dry-out CMP装置(GPC-300A)の画像
特徴 全自動で研磨から高圧洗浄、超音波洗浄までを完結する
Dry-in/Dry-out方式
構成例 4つの独立クリーニングステーション
 DIWスプレー プレクリーニング×1
 両面ロールブラシクリーニング×2
 N2ブロー スピンリンスドライ×1
ワークサイズ 8インチ・300㎜
全自動Dry-in / Dry-out CMP装置(GPC-300A)の画像
全自動Dry-in / Dry-out CMP装置(GPC-300A)の画像

4~12インチウエハ試作評価向け CMP装置(POLI-762)

4~12インチウエハ試作評価向けCMP装置(POLI-762)の画像
4~12インチウエハ試作評価向けCMP装置(POLI-762)の画像
寸法 W: 1,580 ✕ D: 1,480 ✕ H: 1,960
プラテンサイズ Φ 762 mm (30 inch)
ヘッド回転機構 30 ~ 200 rpm,回転機構
ヘッド揺動 ± 12mm
加圧方式 可変エアー圧電子制御式
メンブレンタイプ 70~350 g/cm2 (1psi~5psi)
プロセス 自動シーケンス、ドライイン/ウェットアウト
オプション AMAT / 荏原製作所製キャリア
製造元 韓国 G&P Technology社

4~8インチウエハ試作評価向け CMP装置(POLI-500)

4~8インチウエハ試作評価向けCMP装置の画像
4~8インチウエハ試作評価向けCMP装置(POLI-500)の画像
寸法 W: 1,200mm✕D: 1,160mm✕H: 1,960mm
プラテン φ508mm(20inch)
ヘッド径 φ930mm
ヘッド材質 ステンレス
ヘッド回転機構 30-200rpm
ワークサイズ φ8インチまで対応可能
プレス方法 可変空気圧コントローラー
メンブレンタイプ 70-500g/cm3
プロセス 自動シーケンス、ドライイン・ウェットアウト方式
オプション コンディショニングヘッド選択可(振動タイプorスイングアーム)
パッドプロファイル計測
摩擦力、温度管理システム
特長 安定した再現性(WTWNU<5%)
高剛性
幅広いCMP開発に対応可能。
製造元 韓国 G&P Technology社

4~6インチウエハ試作評価向け CMP装置(POLI-400/400L)

4~6インチウエハ試作評価向けCMP装置(POLI-400/400L)の画像
4~6インチウエハ試作評価向けCMP装置(POLI-400/400L)の画像
寸法 W: 960 ✕ D: 1,000 ✕ H: 1,950
プラテン Φ406 mm (16 inch)
ヘッド回転機構 30 ~ 200 rpm
ヘッド揺動 ± 12mm
ワークサイズ Φ4~6インチ対応
プレス方式 可変エアー圧電子制御式
キャリアタイプ: 70~500 g/cm2  4” ウエハ用
メンブレンタイプ: 70~500 g/cm2
プロセス 自動シーケンス, ドライイン/ウェットアウト
製造元 韓国 G&P Technology社