近年、中国ではロジック・パワー半導体の双方において自給化の動きが加速しており、SiおよびSiCウエーハ産業が急速に拡大しています。特に、設備投資の増加や国産装置の台頭により、ウエーハ製造・加工技術の高度化が進んでおり、グローバル市場においても無視できない存在感を示し始めています。

本セミナーでは、まず中国半導体市場全体の動向を整理し、SiおよびSiCウエーハに関わる最新の需給・産業トレンドを解説します。次に、中国勢が強みを持つウェーハ製造装置の技術発展や加工プロセスの最新技術について、装置メーカーおよびウェーハメーカーの視点から詳しくご紹介します。

最後に、講師陣によるパネルディスカッションを通じて、中国ウェーハ産業の成長要因や技術課題、今後の競争力に関する洞察を多角的に議論します。

プログラム

時間

セミナー内容（一部変更する場合がございます）

13:35〜14:35

「成長を続ける半導体市場における中国半導体の躍進」
講師：鈴木 寿哉 氏
（OMDIA インフォーマインテリジェンス合同会社 コンサルティングディレクター

世界の半導体市場はAIの爆発的な広がりに牽引され、大きな成長が期待されている。
中国政府も、内製化に向けた積極投資で半導体開発を後押ししている状況が続く。
地政学リスクのなかデカップリングすすむ、世界の半導体市場の中でも、
EV自動車のおかげで大きな成長が期待されたパワー半導体やADAS向けの
SoC開発が加速する中国の半導体開発事情を紐解き、今後の展望を解説する。

14:40〜15:40

「中国SiCベアウエハー製造技術の現状と開発動向」
講師：陳 先炳 氏（晶星機電日本株式会社 執行役員）

１．SiCベアウエハー製造技術の紹介
２．JSGのSiCウエハー関連事業の紹介
３．中国SiCベアウエハー製造技術の開発動向

15:40〜15:55

休憩

15:55〜16:55

「中国のシリコンウェハー市場とウェハー加工技術の動向」
講師：倉本 篤史 氏（株式会社フェローテック シリコン技術推進部 部長）

  1. 中国ウェハー加工の現状
  2. 中国ウェハーの強み、背景
  3. 中国Ferrotecの製品群動向
  4. 中国サプライチェーン 装置材料メーカの動向

17:00〜17:40

「パネルディスカッション」
モデレータ：泉妻 宏治 氏

（グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社 フェロー・スペシャリスト 技監）

【講師紹介】

第一部：鈴木 寿哉 氏（インフォーマインテリジェンス合同会社 OMDIA コンサルティングディレクター）

富士通株式会社電子デバイス部門にて、金属薄膜の化学気相成長技術開発に従事し、ファウンドリ事業の顧客開拓、マーケティングを経てSocionextにてカスタムSoC事業をアメリカでリードした後、中国での事業を統括した。35年以上の半導体企業での経験を活かし、Omdiaでは、パワー半導体、SoC、半導体サプライチェーン、車載半導体、中国半導体市場の調査実績があり地政学リスクを踏まえたサプライチェーン変化などセミナー講師を務める。

第二部：陳 先炳 氏（晶星機電日本株式会社 執行役員）

浙江大学院卒、日本在住19年目、JSGで新規ビジネス企画に従事し、半導体製造装置と材料の開発マネジメント及び市場開拓を行う。

第三部：倉本 篤史 氏（株式会社フェローテック シリコン技術推進部 部長）

1998年に初めて中国を訪問し、2002年よりFerrotec中国工場にて仕事をしている。
シリコンウエーハ関連の新規中国工場の生産設計導入立上げを歴任し、現在浙江省麗水工場の立上げに従事している。

第四部：泉妻 宏治 氏（グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社 フェロー・スペシャリスト 技監）

 

開催日時

 2026年3月6日（金）13:30〜17:40

開催場所

 【会場】プラザエフ（各線四ツ谷駅より徒歩1分）
【オンライン】zoom

定員

 会場 ：30名
オンライン：200名

受講料

 個人参加（会場/オンライン）：30,800円（税込み）
5名までのグループ参加（オンラインのみ）：63,800円（税込み）

◇お申込後、弊社より請求書をお送りいたします。御社の支払いサイクルに沿う形でお支払いをお願い致します。

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（申し込まれた方がご都合の悪い場合は、代理の方がご出席ください）

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