Seminar
セミナー
GAA(Gate-All-Around)は、次世代の半導体トランジスタ技術であり、従来のFinFET構造に比べてより精密な電流制御と低消費電力を実現します。この技術は、5nm以下の微細化において、さらなる性能向上と省エネルギー化を可能にし、次世代デバイスの中核を担うものです。 しかしながらGAA以降の半導体プロセス技術では、ますます精密なアトミックレベルの制御が求められており、課題にも直面しております。 本セミナーでは、半導体製造におけるアトミックレベル技術の最新動向と、業界が直面する課題を探って参ります。
【講師紹介】
1984年09月 ~ 1988年06月,ニューヨーク大学,大学院芸術科学系研究科,数学専攻 1982年04月 ~ 1987年03月,東京大学,大学院理学系研究科,物理学専攻 1978年04月 ~ 1982年03月,東京大学,理学部,物理学科
2022年 株式会社日立ハイテクに入社後、エッチングプロセス開発、マーケティング業務に従事。 株式会社ニコン、LG Japan Lab株式会社を経て現職
2014~ (株)SCREENセミコンダクターソリューションズ 2018~2021 Imec(ベルギーの半導体研究機関) 駐在3年
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◇開催7日前以降のキャンセルはお受けいたしかねますのでご了承ください。 (申し込まれた方がご都合の悪い場合は、代理の方がご出席ください)
半導体/MEMS/ディスプレイのWEBEXHIBITION(WEB展示会)による製品・サービスのマッチングサービス SEMI-NET(セミネット)