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ギガフォトン、EUVパイロット光源において集光ミラー長寿命化に成功

ナノインプリント技術を応用することにより、高価なマスターマスクのパターンを忠実かつ短時間にマスク部材に転写することができ、高い生産性でレプリカマスクを製作することが可能です。2016年2月、米Avago Technogies社による米Broadcom社の買収が完了した。買収額は370億USドルで、内170億USドルが現金、残り200億USドル相当分が株式によって支払われた。同買収により、1年半以内に年間7億5,000万USドルのコスト削減が見込めるとしている。年間売上高はおよそ150億USドルとなる見込みで、買収後の社名は「Avago Technologies」を継承せず、「Broadcom」とした。【GNC Letter 222】JR東日本、新型通勤電車にSiC半導体素子を採用
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関係各位 日頃は格別のご高配を賜り、誠に有難うございます。
公益社団法人 化学工学会 エレクトロニクス部会が主催するシンポジウム「微小銅めっきのメカニズムとその応用」
が9月11日(木)12:30~17:40/懇親会 17:50~19:00に蔵前会館 ロイアルブルーホールで開催されます。
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●JR東日本は7月2日、SiC半導体素子を搭載した新型通勤電車(E235系)の量産計画を発表した。2015年3月以降に
落成し、走行試験を行い2015年秋頃から山手線で営業運転を開始する。現行の車両ではSi IGBTモジュールを使用
しているが、SiCモジュールを利用することにより車両の消費電力の抑制を図る。
●イスラエルTower Semiconductor社は2014年7月1日、京都・長岡京市にセールス&サポートオフィスを開設する
と発表した。同社は2014年4月にパナソニックとの合弁会社「パナソニック・タワージャズ セミコンダクター」
を設立、パナソニックの旧北陸3工場(魚津・砺波・新井)が移管されている。同合弁会社での生産を中心に、
日本及びアジアの顧客との関係構築や販売戦略の主要拠点として新オフィスを位置付ける。
●リソグラフィ光源メーカーであるギガフォトンは6月30日、現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ
(LPP)光源のプロトタイプにおいて、最大出力92 Wを発光効率(CE)4.2%で達成することに成功したと発表した。
今後同社では量産対応EUVスキャナーの実現に向けて、2014年末までに150Wの出力、最終的には250Wを目指し
研究開発を行う。
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個人情報の取り扱いについて:http://www.global-net.co.jp/privacy.html量子ドットフィルムによるイメージセンサ、本年中に製品関西大学 システム理工学部の 田實 佳郎 教授と帝人は1月12日、ポリ乳酸繊維を使用の圧電体を組紐状にしたウェアラブルセンサ「圧電組紐」の開発成功を発表した。同発表によると、世界初の成果だという。
●ギガフォトンは2月24日、EUVスキャナー用レーザー生成プラズマ(LPP)のパイロット光源において、同社の新規独自開発技術である磁場を使ったデブリミチゲーション(残余物除去)が、集光ミラーの長寿命化に効果的であると発表した。
   
●EUV装置では、高輝度のEUVプラズマから発生する光を集光し、露光装置に伝送する集光ミラーが不可欠となる。高出力運転時においてこのミラーが発光時のターゲットである錫に汚染されるため、耐用時間が非常に短くなり、実用化への大きな障害となっていた。
 
●今回同社は、特許登録済技術である磁場を使ったデブリミチゲーション技術を、100Wレベルの運転にて量産工場対応EUVリソグラフィ用パイロット光源に搭載した実験を行った。集光ミラーの寿命延長効果(反射率低下率:0.5%/Billion pulse以下)を確認したという。このデータは、従来連続運転で数週間が限界であった集光ミラーの耐用時間が延長できる可能性を示唆している。
    
   
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最終更新 2017年 2月 27日(月曜日) 09:31