Home GNC Letter(配信ニュース)一覧 東工大、不揮発性SRAMを用いて、マイクロプロセッサの待機電力を大幅削減

東工大、不揮発性SRAMを用いて、マイクロプロセッサの待機電力を大幅削減

2016年2月、米Avago Technogies社による米Broadcom社の買収が完了した。買収額は370億USドルで、内170億USドルが現金、残り200億USドル相当分が株式によって支払われた。同買収により、1年半以内に年間7億5,000万USドルのコスト削減が見込めるとしている。年間売上高はおよそ150億USドルとなる見込みで、買収後の社名は「Avago Technologies」を継承せず、「Broadcom」とした。【GNC Letter 222】JR東日本、新型通勤電車にSiC半導体素子を採用
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関係各位 日頃は格別のご高配を賜り、誠に有難うございます。
公益社団法人 化学工学会 エレクトロニクス部会が主催するシンポジウム「微小銅めっきのメカニズムとその応用」
が9月11日(木)12:30~17:40/懇親会 17:50~19:00に蔵前会館 ロイアルブルーホールで開催されます。
参加費等詳細につきましては このメールアドレスは、スパムロボットから保護されています。アドレスを確認するにはJavaScriptを有効にしてください
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●JR東日本は7月2日、SiC半導体素子を搭載した新型通勤電車(E235系)の量産計画を発表した。2015年3月以降に
落成し、走行試験を行い2015年秋頃から山手線で営業運転を開始する。現行の車両ではSi IGBTモジュールを使用
しているが、SiCモジュールを利用することにより車両の消費電力の抑制を図る。
●イスラエルTower Semiconductor社は2014年7月1日、京都・長岡京市にセールス&サポートオフィスを開設する
と発表した。同社は2014年4月にパナソニックとの合弁会社「パナソニック・タワージャズ セミコンダクター」
を設立、パナソニックの旧北陸3工場(魚津・砺波・新井)が移管されている。同合弁会社での生産を中心に、
日本及びアジアの顧客との関係構築や販売戦略の主要拠点として新オフィスを位置付ける。
●リソグラフィ光源メーカーであるギガフォトンは6月30日、現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ
(LPP)光源のプロトタイプにおいて、最大出力92 Wを発光効率(CE)4.2%で達成することに成功したと発表した。
今後同社では量産対応EUVスキャナーの実現に向けて、2014年末までに150Wの出力、最終的には250Wを目指し
研究開発を行う。
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●東京工業大学 科学技術創成研究院 未来産業技術研究所の菅原聡准教授らの研究グループは、マイクロプロセッサやSoCにおけるコアの待機時電力削減に有効な、不揮発性SRAMを用いた新たな低消費電力技術(パワーゲーティング)を開発した。
  
●同グループが提案した不揮発性パワーゲーティング(NVPG)は、電源を遮断しても記憶内容を保持できる不揮発記憶を利用して、ロジックシステムの電源遮断を頻繁に行い高効率に待機時電力を削減する方法である。
  
NV-SRAM1
  
●不揮発性SRAMは、通常のSRAMセルにトランジスタを介して、不揮発性メモリ素子である強磁性トンネル接合(MTJ)を接続している。このトランジスタによって、通常動作時にはMTJをSRAMから電気的に切り離すことが可能となる。また、不揮発性SRAMに接続されたパワースイッチでセルへの電源遮断を行う。
  
NV-SRAM2
  
●上図は試作されたNV-SRAMの設計レイアウトである。通常のSRAMと同様の周辺回路に、不揮発記憶を行うための周辺回路を追加した。CMOSのプロセス技術には65nmのSOTB技術を用いている。この技術では、CMOS基板にバイアスを加えることで、電源遮断時におけるトランジスタのリーク電流を大幅に削減することができる。セルアレイを駆動する周辺回路に採用した。
  
(画像は東京工業大学 プレスリリースより)
   
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最終更新 2016年 11月 24日(木曜日) 11:34