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【GNC Letter 262】10nm/7nm世代のリソグラフィ装置

【GNC Letter 222】JR東日本、新型通勤電車にSiC半導体素子を採用
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関係各位 日頃は格別のご高配を賜り、誠に有難うございます。
公益社団法人 化学工学会 エレクトロニクス部会が主催するシンポジウム「微小銅めっきのメカニズムとその応用」
が9月11日(木)12:30~17:40/懇親会 17:50~19:00に蔵前会館 ロイアルブルーホールで開催されます。
参加費等詳細につきましては このメールアドレスは、スパムロボットから保護されています。アドレスを確認するにはJavaScriptを有効にしてください
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●JR東日本は7月2日、SiC半導体素子を搭載した新型通勤電車(E235系)の量産計画を発表した。2015年3月以降に
落成し、走行試験を行い2015年秋頃から山手線で営業運転を開始する。現行の車両ではSi IGBTモジュールを使用
しているが、SiCモジュールを利用することにより車両の消費電力の抑制を図る。
●イスラエルTower Semiconductor社は2014年7月1日、京都・長岡京市にセールス&サポートオフィスを開設する
と発表した。同社は2014年4月にパナソニックとの合弁会社「パナソニック・タワージャズ セミコンダクター」
を設立、パナソニックの旧北陸3工場(魚津・砺波・新井)が移管されている。同合弁会社での生産を中心に、
日本及びアジアの顧客との関係構築や販売戦略の主要拠点として新オフィスを位置付ける。
●リソグラフィ光源メーカーであるギガフォトンは6月30日、現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ
(LPP)光源のプロトタイプにおいて、最大出力92 Wを発光効率(CE)4.2%で達成することに成功したと発表した。
今後同社では量産対応EUVスキャナーの実現に向けて、2014年末までに150Wの出力、最終的には250Wを目指し
研究開発を行う。
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★「世界有機EL照明産業年鑑2013」 2013年10月15日発刊 定価 38,000円+税
★「世界LED照明産業年鑑2013」 定価 38,000円+税
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【GNC Letter 262】10nm/7nm世代のリソグラフィ装置
  
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関係各位 日頃は格別のご高配を賜り、誠に有難うございます。
半導体プロセスを10nm/7nm世代に微細化するにあたり、リソグラフィ装置の技術開発が必須となっております。
「ArF液浸」「EUV」「ナノインプリント」という3つの選択肢があり、現状ではArF液浸を引き続き採用するという線が
有力ですが、次世代技術として「EUV」「ナノインプリント」にも注目が集まっています。
そこで今回は、これら露光技術の現況についてまとめてみました。
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【ArF液浸・マルチパターニング】
●ニコンは2014年12月、「SEMICON JAPAN 2014」において、同社のArF液浸露光装置「NSR-S630D」を10nm世代
にまで対応させるロードマップを掲示した。同製品は投影レンズ性能の向上、レチクルステージ位置計測のエンコーダ
化、温空調システムの改良により、装置間重ね合わせ精度2.5 nm以下でスループット毎時250枚以上(96 shots)を実現
しており、2014年4月に受注を開始した。1Xnm世代向けであったが、レチクルや照明等を改善することで、10nm世代
にも対応させる。
 
●米Applied Materials社は2015年4月22日、マルチパターニングを10nm世代以降に拡張する次世代光リソグラフィ用の
フォトマスクエッチング装置を発表した。CD制御性能とエッチング選択比を高めてさらに薄いレジスト膜の使用が可能
となった結果、重要なデバイス層に一段と微細なフォトマスクCDパターンを施すことが可能となった。クロム、MoSi、
ハードマスク、石英(シリカガラス)などを用いたエッチングアプリケーションに対応する。
 
【EUV】
●EUV露光装置は蘭ASML社が開発を進めている。同社は2014年11月、台TSMC社から、量産用途でEUV「NXE:3350B」
2台を受注した。2015年中の納品を予定している。「NXE:3350B」は既存の「NXE:3300B」の次世代製品にあたり、台
TSMC社に既に納入済みの「NXE:3300B」2台も「NXE:3350B」にアップグレードされるという。蘭ASML社は、ロジッ
クやDRAM、NANDフラッシュの量産において、EUV露光が2016年~2017年にはコスト面で競争力を有するものになる
と予想している。
 
【ナノインプリント】
●キヤノンは2015年2月、ナノインプリント技術(NIL)を用いた半導体製造装置を開発を進めており、2015年内の製品化
を目指していることを公表した。EUV露光装置が次世代の先端微細加工領域において主流とされるなか、キヤノンは10nm
台の微細加工を実現するNILの研究を2004年より続けている。同装置の導入先として、まずはフラッシュメモリーを製造
するメモリーメーカーを予定しているが、将来的にはDRAMやロジックへの適用も目指しているという。NILに関しては、
東芝と韓SK Hynix社が2015年2月に共同開発契約の締結を発表しているほか、大日本印刷も同月、20nmプロセス対応の
テンプレートを2015年内に量産する計画を発表した。
 
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【その他GNCの出版物】
★「世界半導体製造装置・試験/検査装置市場年鑑2015」2015年3月24日発刊
書籍版 定価 48,000円+税  CD-ROM版 定価 85,000円+税 セット料金(書籍+CD-ROM)定価 99,800円+税
詳細・ご注文は → http://www.global-net.co.jp/publication/semiconductor/438-souchi2015.html
★「世界有機EL照明産業年鑑2015」 2014年12月10日発刊 定価 38,000円+税
詳細・ご注文は → http://www.global-net.co.jp/publication/ledel/414-el2015.html
★「グリーンデバイス基板とCMP消耗材市場分析レポート2014」 2014年10月23日発刊 定価 180,000円+税
詳細・ご注文は → http://www.global-net.co.jp/publication/cmp/393-consumable2014.html
★「世界LED照明産業年鑑2014」 2014年9月16日発刊 定価 38,000円+税
詳細・ご注文は → http://www.global-net.co.jp/publication/ledel/399-led2014.html
★「世界半導体工場年鑑2014」 2014年7月31日発刊
書籍版 定価 48,000円+税  CD-ROM版 定価 85,000円+税 セット料金(書籍+CD-ROM)定価 99,800円+税
詳細・ご注文は → http://www.global-net.co.jp/publication/semiconductor/377-2014.html
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最終更新 2015年 4月 27日(月曜日) 12:17