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【GNC Letter 111】セミコンジャパン2011レポート

【GNC Letter 111】セミコンジャパン2011レポート
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関係各位 日頃は格別のご高配を賜り、誠に有難うございます。先週は幕張メッセでセミコンジャパン2011が
開催されました。主催者の発表では、3日間の入場者数は昨年を5%程度下回る約63,000人とのことです。あい
にくの雨模様と厳しい冷え込みが何か影響したのでしょうか?GNC Letter 111は今年のセミコンジャパンの話
題をお送りします。

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●産業技術総合研究所ファブシステム研究会のブース(Hall2)は多くの人が来訪し、活況を呈した。そこでは、
同会が推進するミニマルファブプロジェクトで開発中のハーフインチウエハ向けプロセス装置の展示・実演が
行われていた。クリーン度を確保できる専用のウエハケースを使うため、クリーンルームでなくとも設置・処理
できる。一定規格に統一された小さな装置20台程度のパイロットラインならおよそ1億円程度で構築できる見込
で、R&D向け設備投資を大幅に削減できる。ファブシステム研究会では、装置の小規模量産への適用も推進
しており、400台程度の構成の量産ラインでも20億円程度から実現できるという。展示会での来場者の反応に
も手応えを感じており、2015年ごろの実用化を目標に掲げている。

●ここ数年、前工程装置メーカーが後工程向けの新製品を出展する傾向が見受けられる。今回東京エレクト
ロンはSi深堀エッチング装置やウエハ貼り合わせ装置などのTSV関連製品を発表。大日本スクリーン製造
(DNS)は後工程用レーザー直描装置を最新スクラバや枚葉洗浄装置とともにデモンストレーションした。これ
はDNSとしては初の後工程向け装置で、印刷製版機器で培った画像情報処理技術等を取り入れ、ウエハの
反りやゆがみを逐一補正しながら露光できるという特徴を備える。

●クリーンルーム関連では、清水建設や鹿島建設といったブースで目を引いたのが、「免震」「制震」といった
フレーズ。東日本大震災の厳しい経験から、クリーン性能、エネルギー/コスト低減と並んで災害対策・危機
管理対策が今まで以上に重要視されていることを感じさせた。また、以前MEMS展でも注目を浴びていた興研
のオープンクリーンシステムの実演には多くの人が集まり、実演会場内のパーティクルの数値があっという間
に0に近づいていく様子に目を奪われていた。

●国際会議場で行われたSEMIテクノロジーシンポジウム、LEDセッション・OLEDセッションともほぼ満席に近
い聴講者で埋め尽くされ、盛況裡に終わった。特にLEDセッションでは、オスラムの藁科英永氏よりLEDの高
効率化に向けた現状の課題と技術動向について、また次世代型LEDに向けた最先端GaN基板技術の発表が
大阪大学・森勇介教授から行われ、大変注目された。またOLEDセッションでは、オランダ・ホルストセンターの
Ton博士より、同機関で現在開発が進められているRtoRによるフレキシブルOLED照明の製造工程が詳細に
紹介されるなど、日欧の最先端OLED研究成果発表に高い関心が集まった。

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最終更新 2011年 12月 21日(水曜日) 15:18